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高壓產(chǎn)生特征與連續(xù)X射線譜
發(fā)布時(shí)間:2019-11-15 09:48:15 點(diǎn)擊:4948
連續(xù)X射線譜
X射線光管利用由高壓產(chǎn)生的X射線束作為激發(fā)源。高能入射粒子或電子與靶元素中束縛力較弱的電子發(fā)生隨機(jī)碰撞后,電子減速,功能損失,損失的能量將以光子發(fā)射的形式出現(xiàn),從而產(chǎn)生連續(xù)的X射線譜,稱為韌致輻射。
XRF是一項(xiàng)非破壞性的元素定性和定量分析的技術(shù),其原理是根據(jù)被入射X光提升到激發(fā)態(tài)的樣品,在回復(fù)到基態(tài)時(shí),所放射的X光熒光,具有因元素種類和含量不同而有不同的波長(zhǎng)X光射線的特性。當(dāng)X光照射樣品時(shí),有兩種主要的現(xiàn)象發(fā)生,即:散射現(xiàn)象(Scattering)和光電吸收(Photoelectric Absorption)。
高壓產(chǎn)生特征與連續(xù)X射線譜
特征X射線譜
產(chǎn)生特征X射線所需要的最小能量等于相應(yīng)殼層電子的結(jié)合能,也稱為吸收邊能量,只有當(dāng)光管超出臨界激發(fā)電壓的狀態(tài)下,靶的特征線才會(huì)出現(xiàn)。
電壓太高時(shí),電子穿透深度過(guò)大,靶材的自吸收將會(huì)變得十分顯著。故而只有當(dāng)光管電壓等于臨界激發(fā)電壓的3-5倍時(shí),可得到最佳的特征譜線強(qiáng)度。這對(duì)于選擇靶線激發(fā)輕元素分析具有指導(dǎo)意義。
X射線譜由連續(xù)譜和標(biāo)識(shí)譜兩部分組成,標(biāo)識(shí)譜重疊在連續(xù)譜背景上,連續(xù)譜是由于高速電子受靶極阻擋而產(chǎn)生的軔致輻射,其短波極限λ0由加速電壓V決定:λ 0 = hc /( ev )為普朗克常數(shù),e為電子電量,c為真空中的光速。標(biāo)識(shí)譜是由一系列線狀譜組成,它們是因靶元素內(nèi)層電子的躍遷而產(chǎn)生,每種元素各有一套特定的標(biāo)識(shí)譜,反映了原子殼層結(jié)構(gòu) 的特征。同步輻射源可產(chǎn)生高強(qiáng)度的連續(xù)譜X射線,現(xiàn)已成為重要的X射線源。
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